אינטל מתכננת לבנות צמתים של 1.4 ננומטר עד שנת 2029

מפת דרכים של טכנולוגיית התהליכים של אינטל התפתחה (מדווחת על ידי WikiChip) שרואה כי אינטל מציגה תהליך חדש כל שנתיים לעשור הבא, וכתוצאה מכך צומת 1.4nm בשנת 2029. יהיו גם שתי אופטימיזציות נוספות בתוך מאותו צומת, עם 10nm +++ בשנת 2021.

אינטל מתכננת לבנות צמתים של 1.4 ננומטר עד שנת 2029

מפת הדרכים הוצגה במצגת ASML בכנס IEDM השוטף 2019 ומתוארכת למצגת אינטל בספטמבר. זה מראה 10nm בשנת 2019, 7nm ב 2021 ו 5nm בשנת 2023, בהתאמה בהתפתחות ובהגדרה. באוקטובר, אינטל הודיעה על כוונתה לחזור לקצב של שנתיים עד שנתיים וחצי והכריזה על אמון בצומת 5nm.

מפת הדרכים חושפת כי לאינטל יש 3nm ו- 2nm בדרך וצומת 1.4nm נמצא כעת בבדיקה. זו הפעם הראשונה שאינטל חושפת שהיא עובדת על צמתים אלה. טווח הזמן בין כל הצמתים הוא כשנתיים, תוך מיקום של 3 ננומטר בשנת 2025. עם זאת, מכיוון שהשיגור של 7 ננומטר מתוכנן לרבעון הרביעי של 2021, כל עיכוב קטן בעשור הבא יאפשר ל -3 ננומטר להגיע מאוחר יותר. ומכאן גם תגרור 1.4nm עד 2030 או יותר.

מפת הדרכים אינה חושפת פרטים על השינויים שהם יכניסו ברמה הטכנולוגית, מלבד האמירה כי כל צומת יהיה מסלול ביצועי העלות האופטימלי ויציג תכונות חדשות. למשך 7nm, זה אומר הכנסת EUV. עד 5 ננומטר צפויה אינטל לעבור מ- FinFETs נוכחיים ל- nanowire FinFETs מוערמים על צמתים מאוחרים יותר. אינטל צפויה גם לכוון להשתמש בדור הבא של ליטוגרפיה EUV גבוהה של 5 ננומטר EUV: מנהלת הליטוגרפיה של אינטל עשתה לאחרונה "קריאה לפעולה כדי להפעיל מערכת EUV גבוהה עם תוכן NA". לפי לוח השנה של 2023, לפי SemiEngineering .

בקר במדריך שלנו למעבדים הטובים ביותר בשוק

לבסוף, אינטל הודיעה בישיבת המשקיעים שלה השנה כי החברה תמשיך בתרגול שהחל בשעה 14nm של הצגת אופטימיזציות תהליכים בתוך הצומת (המכונה עדכון '+').

עד כה, אף יצרן לא דיבר בפתיחות על צמתים קטנים מ- 3 ננומטר בפיתוח, כך שמידע זה מעניין. אנו נעדכן אותך.

גופן Tomshardware